Method of metrology and associated apparatuses

WO2019179786 Art A1 26. September 2019

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019179786
Aktenzeichen: EP19709048
Anmeldetag: 7. März 2019
Veröffentlichung: 26. September 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/86G03F1/84G06T7/73G06T7/13G06T7/12

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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