Photoresist resin, production method for photoresist resin, photoresist resin composition, and pattern formation method
WO2019181228
Art A1
26. September 2019
Anmelder: DAICEL CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019181228
- Aktenzeichen
- EP19770872
- Anmeldetag
- 31. Januar 2019
- Veröffentlichung
- 26. September 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F220/18G03F7/039G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- DAICEL CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Daicel Corporation
Daicel Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das Celluloseacetat, Airbag-Gasgeneratoren und Spezialchemikalien herstellt.
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