Photoresist resin, production method for photoresist resin, photoresist resin composition, and pattern formation method

WO2019181228 Art A1 26. September 2019

Anmelder: DAICEL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019181228
Aktenzeichen
EP19770872
Anmeldetag
31. Januar 2019
Veröffentlichung
26. September 2019
Rechtsraum
WO
IPC
C08F220/18G03F7/039G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
DAICEL CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Daicel Corporation

Daicel Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das Celluloseacetat, Airbag-Gasgeneratoren und Spezialchemikalien herstellt.

1.524 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen