Laser gas management system, electron device manufacturing method, and excimer laser system control method
WO2019186651
Art A1
3. Oktober 2019
Anmelder: GIGAPHOTON INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019186651
- Aktenzeichen
- EP18911462
- Anmeldetag
- 26. März 2018
- Veröffentlichung
- 3. Oktober 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01S3/036G03F7/20H01S3/00H01S3/225H01S3/23
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- GIGAPHOTON INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Gigaphoton
Gigaphoton ist ein japanischer Hersteller von Excimer-Lasersystemen für die Halbleiterlithografie, ein Gemeinschaftsunternehmen unter Beteiligung von Komatsu. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Elektronik. Anmeldungen erstrecken sich von 2001 bis 2023.
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