Substrate processing device and semiconductor device production method

WO2019186681 Art A1 3. Oktober 2019

Anmelder: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019186681
Aktenzeichen
EP18912024
Anmeldetag
27. März 2018
Veröffentlichung
3. Oktober 2019
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/205C23C16/44H01L21/20H01L21/22H01L21/31
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Kokusai Electric

Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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