Sputtering target and method for producing same, and method for producing magnetic recording medium

WO2019187243 Art A1 3. Oktober 2019

Anmelder: JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019187243
Aktenzeichen: EP18913119
Anmeldetag: 28. September 2018
Veröffentlichung: 3. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22F3/14B22F3/15B22F9/08C22C1/05C22C29/00C22C29/16C22C32/00C23C14/06G11B5/851

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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