Photosensitive transfer material, method for producing resist pattern, method for producing circuit wiring line, touch panel, and touch panel display device

WO2019187364 Art A1 3. Oktober 2019

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019187364
Aktenzeichen: EP18912326
Anmeldetag: 6. Dezember 2018
Veröffentlichung: 3. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08F20/28C08G8/36G03F7/004G03F7/039G03F7/20H05K3/06

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von