Active-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, metohd for forming pattern, and method for manufacturing electronic device

WO2019187445 Art A1 3. Oktober 2019

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019187445
Aktenzeichen: EP18912122
Anmeldetag: 27. Dezember 2018
Veröffentlichung: 3. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C59/60C07C309/57C07C317/44C07C321/28C07C381/12G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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