Sputtering Target
WO2019187520
Art A1
3. Oktober 2019
Anmelder: TANAKA KIKINZOKU KOGYO K.K., TOHOKU UNIVERSITY 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019187520
- Aktenzeichen
- EP19776175
- Anmeldetag
- 17. Januar 2019
- Veröffentlichung
- 3. Oktober 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34G11B5/851H01F10/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TANAKA KIKINZOKU KOGYO K.K.
TOHOKU UNIVERSITY - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tohoku University
Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.
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