Substrate treatment device, method for manufacturing semiconductor device, and program

WO2019188037 Art A1 3. Oktober 2019

Anmelder: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019188037
Aktenzeichen
EP19777886
Anmeldetag
5. März 2019
Veröffentlichung
3. Oktober 2019
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/31C23C16/455H01L21/316H01L21/318
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Kokusai Electric

Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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