Mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2019188397 Art A1 3. Oktober 2019

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019188397
Aktenzeichen: EP19778148
Anmeldetag: 15. März 2019
Veröffentlichung: 3. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32G03F1/58G03F1/74

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

701 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von