Production method for semiconductor substrate, and set such as polishing composition set
WO2019188901
Art A1
3. Oktober 2019
Anmelder: FUJIMI INCORPORATED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019188901
- Aktenzeichen
- EP19776616
- Anmeldetag
- 25. März 2019
- Veröffentlichung
- 3. Oktober 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304B24B7/22B24B37/00C09K3/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIMI INCORPORATED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujimi
Fujimi ist ein japanischer Hersteller von Poliermitteln, vor allem für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben und Klebstoffe sowie Halbleiterbauelemente und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.
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