Production method for semiconductor substrate, and set such as polishing composition set

WO2019188901 Art A1 3. Oktober 2019

Anmelder: FUJIMI INCORPORATED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019188901
Aktenzeichen
EP19776616
Anmeldetag
25. März 2019
Veröffentlichung
3. Oktober 2019
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304B24B7/22B24B37/00C09K3/14
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
FUJIMI INCORPORATED
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Fujimi

Fujimi ist ein japanischer Hersteller von Poliermitteln, vor allem für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben und Klebstoffe sowie Halbleiterbauelemente und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

511 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen