Composition for hard mask and pattern forming method using same

WO2019190064 Art A1 3. Oktober 2019

Anmelder: DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019190064
Aktenzeichen
EP19774778
Anmeldetag
28. Februar 2019
Veröffentlichung
3. Oktober 2019
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/11C08G73/22G03F7/00H01L21/027
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd.

Südkoreanisches Chemieunternehmen, das optische Folien und Materialien für Displays und Touchscreens herstellt. Patente vor allem im Bereich Display- und Folientechnologie.

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