In-situ wafer temperature measurement and control

WO2019191750 Art A1 3. Oktober 2019

Anmelder: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019191750
Aktenzeichen
EP19718015
Anmeldetag
1. April 2019
Veröffentlichung
3. Oktober 2019
Rechtsraum
WO
IPC
G01K13/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Axcelis Technologies

Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.

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