Surface treatment method of wafer and composition used for said method
WO2019193967
Art A1
10. Oktober 2019
Anmelder: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019193967
- Aktenzeichen
- EP19780623
- Anmeldetag
- 19. März 2019
- Veröffentlichung
- 10. Oktober 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Central Glass
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.
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