Resist pattern formation method and chemically amplified resist material

WO2019194018 Art A1 10. Oktober 2019

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019194018
Aktenzeichen: EP19781725
Anmeldetag: 25. März 2019
Veröffentlichung: 10. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/039G03F7/20G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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