Composition for forming coating film and method for manufacturing semiconductor device

WO2019194175 Art A1 10. Oktober 2019

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019194175
Aktenzeichen: EP19781854
Anmeldetag: 2. April 2019
Veröffentlichung: 10. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C09D139/04C09D7/20H01L21/312H01L21/768H01L23/532

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von