Plasma processing device member, plasma processing device comprising said plasma processing device member, and method for manufacturing plasma processing device member

WO2019194247 Art A1 10. Oktober 2019

Anmelder: KYOCERA CORPORATION, TOSHIBA MATERIALS CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019194247
Aktenzeichen: EP19781617
Anmeldetag: 3. April 2019
Veröffentlichung: 10. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/00C23C14/00C23C14/08C23C16/44C23C16/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: KYOCERA CORPORATION
TOSHIBA MATERIALS CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kyocera

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Kyoto. Kyocera fertigt Keramikbauteile, Halbleiterkomponenten, Solarmodule, Druck- und Kopiersysteme sowie Elektronikprodukte für Industrie und Endverbraucher.

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🇯🇵 Toshiba Materials

Toshiba Materials ist eine japanische Tochtergesellschaft des Toshiba-Konzerns, spezialisiert auf keramische und magnetische Werkstoffe. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie anorganische Chemie und Werkstoffe, ergänzt um Metallurgie. Anmeldungen erstrecken sich über die Jahre 2004 bis 2024.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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