Photosensitive resin composition and pattern structure

WO2019194286 Art A1 10. Oktober 2019

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019194286
Aktenzeichen: EP19781035
Anmeldetag: 4. April 2019
Veröffentlichung: 10. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/029C08F220/18G02F1/1339G03F7/033G02F1/1333

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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