Method of determining a characteristic of a structure, and metrology apparatus

WO2019197117 Art A1 17. Oktober 2019

Anmelder: STICHTING VU, STICHTING NEDERLANDSE WETENSCHAPPELIJK ONDERZOEK I, UNIVERSITEIT VAN AMSTERDAM, ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019197117
Aktenzeichen: EP19712180
Anmeldetag: 19. März 2019
Veröffentlichung: 17. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: STICHTING VU
STICHTING NEDERLANDSE WETENSCHAPPELIJK ONDERZOEK I
UNIVERSITEIT VAN AMSTERDAM
ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von