Examination device

WO2019198201 Art A1 17. Oktober 2019

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019198201
Aktenzeichen: EP18914754
Anmeldetag: 12. April 2018
Veröffentlichung: 17. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/88G01N21/956G01B11/30H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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