Vapor deposition mask base material, method for manufacturing vapor deposition mask base material, method for manufacturing vapor deposition mask, and method for manufacturing display device

WO2019198263 Art A1 17. Oktober 2019

Anmelder: TOPPAN PRINTING CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019198263
Aktenzeichen: EP18914409
Anmeldetag: 26. Oktober 2018
Veröffentlichung: 17. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04C25D1/04

Offizieller Volltext

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Anmelder

Firma: TOPPAN PRINTING CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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