Oxide sintered body, sputtering target, and method for producing oxide thin film

WO2019202753 Art A1 24. Oktober 2019

Anmelder: MITSUI MINING&SMELTING CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019202753
Aktenzeichen: EP18915201
Anmeldetag: 29. August 2018
Veröffentlichung: 24. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C04B35/453C23C14/34H01L21/203

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUI MINING&SMELTING CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsui Mining & Smelting

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von