Methods and apparatus for cleaning semiconductor wafers
WO2019205074
Art A1
31. Oktober 2019
Anmelder: ACM RESEARCH (SHANGHAI) INC. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019205074
- Aktenzeichen
- EP18917021
- Anmeldetag
- 27. April 2018
- Veröffentlichung
- 31. Oktober 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B01D19/00F04B23/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ACM RESEARCH (SHANGHAI) INC.
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
ACM Research (Shanghai)
ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.
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