Stage apparatus, lithographic apparatus, control unit and method

WO2019206548 Art A1 31. Oktober 2019

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019206548
Aktenzeichen: EP19712227
Anmeldetag: 27. März 2019
Veröffentlichung: 31. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/677H01L21/68H01L21/67H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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