Polishing agent for synthetic quartz glass substrates, method for producing same, and method for polishing synthetic quartz glass substrate

WO2019207926 Art A1 31. Oktober 2019

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019207926
Aktenzeichen: EP19794026
Anmeldetag: 20. Februar 2019
Veröffentlichung: 31. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C09K3/14B24B37/00C03C19/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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