Atomic beam generation device, joining device, surface modification method and joining method

WO2019207958 Art A1 31. Oktober 2019

Anmelder: NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOKAI NATIONAL HIGHER EDUCATION AND RESEARCH SYSTEM, NGK INSULATORS, LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019207958
Aktenzeichen: EP19793947
Anmeldetag: 4. März 2019
Veröffentlichung: 31. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H05H3/02G21K1/14H05H1/24

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Anmelder

Firmen: NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOKAI NATIONAL HIGHER EDUCATION AND RESEARCH SYSTEM
NGK INSULATORS, LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National University Corporation Tokai National Higher Education and Research System

Die National University Corporation Tokai National Higher Education and Research System ist ein japanischer Hochschulverbund mit medizinischem und naturwissenschaftlichem Forschungsschwerpunkt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Pharma-/Biotechnologie und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2019 bis 2025 reichen von Osteogenese-Fördermitteln bis zu Polymer-Elektrolytmembranen.

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🇯🇵 NGK Insulators

Japanisches Industrieunternehmen mit Sitz in Nagoya. NGK Insulators fertigt Keramikprodukte, darunter Isolatoren, Abgaskatalysatorträger, Sensoren und Energiespeichersysteme für Energieversorgung, Automobil und Industrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Elektronik & Schaltungstechnik

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