Polishing device, wafer polishing method, and wafer manufacturing method

WO2019208042 Art A1 31. Oktober 2019

Anmelder: SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019208042
Aktenzeichen: EP19791832
Anmeldetag: 22. März 2019
Veröffentlichung: 31. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304B24B37/10B24B37/30B24B55/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.180 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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