C-containing sputtering target and method for producing same

WO2019208463 Art A1 31. Oktober 2019

Anmelder: TANAKA KIKINZOKU KOGYO K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019208463
Aktenzeichen: EP19793887
Anmeldetag: 22. April 2019
Veröffentlichung: 31. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22F1/00B22F3/10C22C1/04C22C1/05C22C5/04C22C19/07C22C30/00C22C30/02C22C33/02C22C38/00G11B5/851

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TANAKA KIKINZOKU KOGYO K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tanaka Kikinzoku Kogyo

Tanaka Kikinzoku Kogyo ist ein japanisches Unternehmen für Edelmetallverarbeitung mit Sitz in Tokio. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Fertigungs- und Verfahrenstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2023 ab.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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