Dielectric film, semiconductor memory device having same, and forming methods thereof

WO2019208903 Art A1 31. Oktober 2019

Anmelder: KOREA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019208903
Aktenzeichen: EP18916429
Anmeldetag: 31. Dezember 2018
Veröffentlichung: 31. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L27/108H01L21/762

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KOREA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Institute of Science and Technology

Südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Seoul, das interdisziplinäre Forschung in Naturwissenschaften, Ingenieurwesen und Materialtechnologie betreibt und zahlreiche Patente aus seinen Instituten hervorbringt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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