Methods to deposit flowable (gap-fill) carbon containing films using various plasma sources

WO2019209484 Art A1 31. Oktober 2019

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019209484
Aktenzeichen: EP19792661
Anmeldetag: 4. April 2019
Veröffentlichung: 31. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/318H01L21/31H01L21/314

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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