Production method for heated ozone water, heated ozone water, and semiconductor wafer-cleaning liquid

WO2019212046 Art A1 7. November 2019

Anmelder: TOHOKU UNIVERSITY, NOMURA MICRO SCIENCE CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019212046
Aktenzeichen
EP19796883
Anmeldetag
26. April 2019
Veröffentlichung
7. November 2019
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304B01F1/00B01F3/04B01F5/06C02F1/68G03F7/42H01L21/027C11D7/18C11D7/54
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
TOHOKU UNIVERSITY
NOMURA MICRO SCIENCE CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

837 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von

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