Multipole lens, and aberration corrector and charged particle beam device using same

WO2019215893 Art A1 14. November 2019

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019215893
Aktenzeichen: EP18918398
Anmeldetag: 10. Mai 2018
Veröffentlichung: 14. November 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/153

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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