Resist composition, resist film, pattern forming method, and electronic device production method

WO2019216118 Art A1 14. November 2019

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019216118
Aktenzeichen: EP19799510
Anmeldetag: 12. April 2019
Veröffentlichung: 14. November 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F220/18G03F7/038G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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