Edge ring focused deposition during a cleaning process of a processing chamber

WO2019217185 Art A1 14. November 2019

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019217185
Aktenzeichen: EP19800212
Anmeldetag: 2. Mai 2019
Veröffentlichung: 14. November 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44C23C16/458C23C16/455H01J37/32H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von