High stability collimator assembly, lithographic apparatus, and method
WO2019219389
Art A1
21. November 2019
Anmelder: ASML HOLDING N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019219389
- Aktenzeichen
- EP19724107
- Anmeldetag
- 2. Mai 2019
- Veröffentlichung
- 21. November 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F9/00G02B6/42G02B7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML HOLDING N.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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