Method for manufacturing an etch stop layer and mems sensor comprising an etch stop layer
WO2019219479
Art A1
21. November 2019
Anmelder: AMS AG 🇦🇹
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019219479
- Aktenzeichen
- EP19721636
- Anmeldetag
- 8. Mai 2019
- Veröffentlichung
- 21. November 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B81C1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AMS AG
- Land
- 🇦🇹 Österreich
🇩🇪
ams OSRAM
ams OSRAM International GmbH ist ein deutsch-österreichischer Hersteller von Sensoren und optoelektronischen Bauteilen, entstanden aus dem Zusammenschluss von ams und Osram.
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