Charged particle beam device, sample processing method, and observation method

WO2019220543 Art A1 21. November 2019

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019220543
Aktenzeichen: EP18919262
Anmeldetag: 15. Mai 2018
Veröffentlichung: 21. November 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/20G01N1/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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