Sputtering target and method for manufacturing sputtering target

WO2019220675 Art A1 21. November 2019

Anmelder: JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019220675
Aktenzeichen: EP18918662
Anmeldetag: 19. Dezember 2018
Veröffentlichung: 21. November 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22F1/00C22C1/05C22C19/07C22C26/00C22C38/00C22C32/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von