Radiation sensitive composition and pattern forming method

WO2019220878 Art A1 21. November 2019

Anmelder: JSR CORPORATION, CORNELL UNIVERSITY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019220878
Aktenzeichen: EP19804164
Anmeldetag: 22. April 2019
Veröffentlichung: 21. November 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: JSR CORPORATION
CORNELL UNIVERSITY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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🇺🇸 Cornell University

Die Cornell University ist eine private Universität in Ithaca, New York (USA), die in Forschung und Lehre über zahlreiche natur- und ingenieurwissenschaftliche Fachrichtungen aktiv ist.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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