Photosensitive film and method for forming permanent mask resist

WO2019221012 Art A1 21. November 2019

Anmelder: SHOWA DENKO MATERIALS CO., LTD., KIMOTO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019221012
Aktenzeichen: EP19803627
Anmeldetag: 9. Mai 2019
Veröffentlichung: 21. November 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/09G03F7/004H05K3/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: SHOWA DENKO MATERIALS CO., LTD.
KIMOTO CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko Materials

Showa Denko Materials, vormals Hitachi Chemical, ist ein japanischer Hersteller elektronischer und chemischer Materialien und gehört inzwischen zum Resonac-Konzern. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Kunststoff- und Polymertechnik, ergänzt durch Klebstoffe und Fertigungstechnik. Anmeldungen stammen aus dem Zeitraum 2010 bis 2022.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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