Holographic grating lithography system, and adjustment method for self-collimating interference optical path thereof
WO2019222909
Art A1
28. November 2019
Anmelder: SOOCHOW UNIVERSITY 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019222909
- Aktenzeichen
- EP18919638
- Anmeldetag
- 22. Mai 2018
- Veröffentlichung
- 28. November 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B5/18G02B5/32G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SOOCHOW UNIVERSITY
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Soochow University
Soochow University ist eine staatliche Universität in Suzhou, China, mit breitem Fächerspektrum einschließlich Materialwissenschaft und Chemie.
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