Method for reducing the width of structures generated by ink deposition on pre-patterned substrates

WO2019224007 Art A1 28. November 2019

Anmelder: PAUL SCHERRER INSTITUT 🇨🇭

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019224007
Aktenzeichen: EP19727834
Anmeldetag: 8. Mai 2019
Veröffentlichung: 28. November 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00H01L27/12H05K3/12H05K3/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: PAUL SCHERRER INSTITUT
Land: 🇨🇭 Schweiz

🇨🇭 PAUL Scherrer Institut

Das Paul Scherrer Institut ist das größte Forschungszentrum für Natur- und Ingenieurwissenschaften der Schweiz mit Sitz in Villigen und Anbindung an Großforschungsanlagen wie Synchrotron und Freie-Elektronen-Laser. Die Patente betreffen vor allem Mess- und Prüftechnik sowie Halbleiterelemente, ergänzt um Medizintechnik, Verfahrenstechnik und Optik. Anmeldungen erfolgen kontinuierlich seit 2000.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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