Reflective mask blank, reflective mask, production method therefor, and semiconductor device production method

WO2019225736 Art A1 28. November 2019

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019225736
Aktenzeichen: EP19806684
Anmeldetag: 24. Mai 2019
Veröffentlichung: 28. November 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/32G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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