Particle beam apparatus

WO2019228884 Art A1 5. Dezember 2019

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019228884
Aktenzeichen: EP19724857
Anmeldetag: 22. Mai 2019
Veröffentlichung: 5. Dezember 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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