Block Copolymer
WO2019230290
Art A1
5. Dezember 2019
Anmelder: SHISEIDO COMPANY, LTD., NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019230290
- Aktenzeichen
- EP19810314
- Anmeldetag
- 25. April 2019
- Veröffentlichung
- 5. Dezember 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F293/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- SHISEIDO COMPANY, LTD.
NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shiseido
Japanisches Kosmetik- und Körperpflegeunternehmen mit Sitz in Tokio, gegründet 1872, eines der ältesten und größten Kosmetikunternehmen der Welt.
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🇸🇬
Nanyang Technological University
Die Nanyang Technological University ist eine staatliche Forschungsuniversität in Singapur, die in den Bereichen Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologie international hoch angesehen ist.
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