Pattern master disk, method for manufacturing pattern master disk, method for manufacturing mold, and method for manufacturing substrate

WO2019230460 Art A1 5. Dezember 2019

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019230460
Aktenzeichen
EP19812354
Anmeldetag
17. Mai 2019
Veröffentlichung
5. Dezember 2019
Rechtsraum
WO
IPC
B29C33/42B29C33/38B29C59/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
FUJIFILM CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen