Vapor deposition material containing silicon oxide, and method for producing base material provided with silicon oxide layer using same

WO2019230571 Art A1 5. Dezember 2019

Anmelder: AGC INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019230571
Aktenzeichen: EP19811739
Anmeldetag: 23. Mai 2019
Veröffentlichung: 5. Dezember 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/24C23C14/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: AGC INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von