Apparatus and method for cleaning semiconductor wafers

WO2019232741 Art A1 12. Dezember 2019

Anmelder: ACM RESEARCH (SHANGHAI) INC. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019232741
Aktenzeichen
EP18921488
Anmeldetag
7. Juni 2018
Veröffentlichung
12. Dezember 2019
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ACM RESEARCH (SHANGHAI) INC.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 ACM Research (Shanghai)

ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.

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