Electron beam device
WO2019234787
Art A1
12. Dezember 2019
Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019234787
- Aktenzeichen
- EP18922065
- Anmeldetag
- 4. Juni 2018
- Veröffentlichung
- 12. Dezember 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/153H01J37/141H01J37/147
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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