Device for residual-monomer removal

WO2019235504 Art A1 12. Dezember 2019

Anmelder: JNC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019235504
Aktenzeichen
EP19815946
Anmeldetag
5. Juni 2019
Veröffentlichung
12. Dezember 2019
Rechtsraum
WO
IPC
C08F6/24C08F14/06
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
JNC CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JNC Corporation

Japanisches Chemieunternehmen, hervorgegangen aus der Chisso Corporation, mit Sitz in Tokio und Schwerpunkt auf Flüssigkristallen, Kunststoffen und Spezialchemikalien.

721 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen